堅実な一歩、Huaweiが正式にリソグラフィ装置の分野に参入！海外メディア：「ASMLの言う通りだ」

アメリカが規則を改定した後、Huaweiなど国内メーカーは開発方針を見直し始めた。Yu氏によると、Huaweiはこれまでチップの研究設計分野にのみ参入しており、重資産を要するチップ製造分野に参入していなかったことは誤りだという。

そのため、早くも2020年後半にHuaweiは半導体分野へ本格参入を表明し、新素材や最終製造工程の技術的な壁も突破すべきだとした。さらに、自社のチップ生産ラインを構築する計画があるとも伝えられている。

誰もが知るように、自社のチップ生産ラインを構築するにはリソグラフィ装置が不可欠だ。リソグラフィ装置はチップ製造に必須の機器である。

リソグラフィ装置分野では、ASMLの技術が最も先進的であり、特にEUVリソグラフィ装置は現在ASMLのみが開発製造できる。しかし、7nm以下のチップ製造に必要なEUV装置は供給が不足している。

さらに、アメリカの制裁により、EUV装置は国内メーカーに納入ができず、DUV装置も特定のメーカーに限られている。

こうした状況の中、Huaweiは半導体装置エンジニアの募集を開始し、リソグラフィ技術の開発に乗り出したと報じられている。

また、Huaweiの任正非氏も国内の大学や中国科学院を訪問し、中国科学院はリソグラフィ技術を重点的に解決すべき技術課題と正式に位置づけた。

Huaweiが国内の先進的なリソグラフィ企業に投資したことについて、海外メディアは「ASMLの言う通りだ。ASMLが自由に出荷できなければ、ASMLやアメリカの技術陣営に利益はない」と報じている。

Huaweiが正式にリソグラフィ分野に参入したことで、国内のリソグラフィ技術開発は自然に加速すると見られている。Huaweiが関わる分野はリーダーになる傾向がある。

5G通信、スマートフォン、チップなど多くの分野でHuaweiは先駆けている。今回リソグラフィ分野に参入したことで、今後の分野を牽引するのは自然な流れだ。

加えて、Huaweiの参入は国内リソグラフィ技術の開発促進をさらに加速させるだろう。現状、上海微電子のリソグラフィ装置は国内市場の80%以上を占めている。

今後、上海微電子が光源技術を活用してより高度なリソグラフィ装置を投入すれば、ASMLが国内市場に食い込むのはより難しくなる。

結局のところ、国内装置は性能が良く、価格も安いため、ASMLのリソグラフィ装置は価格面で国内市場で苦戦するだろう。ASMLの装置は非常に高価だからだ。